Mặt nạ phòng độc Restech RM 2000 + Phin G1001S

– Dùng trong môi trường có Hợp chất hữu cơ ( nồng độ cực thấp )

– Có CO,CQ từ Hàn Quốc – Đạt tiêu chuẩn về Châu Âu

– Diện tích phin rộng hơn so với loại 1 phin nên hiệu qua hấp thụ cao hơn

– Dễ dàng thay phin lọc ngay cả khi đang sử dụng nhờ thiết kế tháo lắp dạng van xoáy

-Tuổi thọ cao nên lực cản hô hấp nhỏ

– Có nhiều kích thước để lựa chọn phù hợp với khuôn mặt

+ Các loại phin dùng cho mặt nạ RM2000 :

Hợp chất hữu cơ ( nồng độ thấp)		HCHC + Acid ( nồng độ thấp) ngoại trừ axit xianhidric
Phòng độc	Kết hợp phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi
GS 1001 S                                     G2001		GD2701VA
Dùng ở những nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ ( các nhà máy hóa chất , luyện gang thép , đóng tàu,…)	Nơi phát sinh thêm cả bụi	Nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ / hơi acid ( nhà máy luyện gang thép, đóng tàu , phun sơn , …)	Nơi phát sinh thêm cả bụi