Mặt nạ phòng độc Restech RM 7100 + Phin G2721V

– Dùng trong môi trường có khí độc hại, khói độc hại, khí gas ( nồng độ thấp )

– Có CO,CQ từ Hàn Quốc – Đạt tiêu chuẩn về Châu Âu

-Cửa khí đi vào đặt ở chính giữa, giúp giảm lực cản hô hấp, khí lưu thông đều, từ đó tăng thời gian sử dụng

– Cấu tạo khóa kép giúp phòng tránh trường hợp phin lọc bị rời ra

– Có nhiều kích thước để lựa chọn phù hợp với khuôn mặt

+ Các loại phin dùng cho mặt nạ RM 7100 :

Hợp chất hữu cơ ( nồng độ thấp)		HCHC + Acid + Amoniac ( nồng độ thấp)
Phòng độc	Kết hợp phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi
phin-loc-phong-doc-G2721V		phin-loc-phong-doc-G2721s
Dùng ở những nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ ( các nhà máy hóa chất , luyện gang thép , đóng tàu,…)	Nơi phát sinh thêm cả bụi	Nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ / hơi acid ( nhà máy luyện gang thép, đóng tàu , phun sơn , …)	Nơi phát sinh thêm cả bụi