Mặt nạ phòng độc Restech RM 7200 + Phin G2912VA

– Dùng trong môi trường ô nhiễm , có khí độc , HCHC + Acid ( nồng độ thấp )

– Có CO,CQ từ Hàn Quốc – Đạt tiêu chuẩn về Châu Âu

– Cấu tạo khóa kép giúp phòng tránh trường hợp phin lọc bị rời ra

– Có nhiều kích thước để lựa chọn phù hợp với khuôn mặt

+ Các loại phin dùng cho mặt nạ RM 7200 :

Phin Lọc Bụi	HCHC + Acid		HCHC+Acid + Amoniac
Phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi
Dùng trong môi trường có bụi/ sương/ khói	Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid	Nơi phát sinh thêm cả bụi	Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid	Nơi phát sinh thêm cả bụi